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ナノの光で原子レベルの平滑化が実現します ~近接場光エッチングの産業応用~
八井 崇
豊橋技術科学大学、長岡技術科学大学、国立高等専門学校の研究シーズが結集した横断的に検索可能なサイトです。
従来のプラズマ溶射装置では困難であった1kW以下の低電力大気圧プラズマ溶射をマイクロ波プラズマにより可能とする技術を開発しました。この技術は、大気圧下で低融点基材への高融点材料の溶射や反応性溶射が可能です。今般、低出力のマイクロ波プラズマ溶射により、ポリアセタール(POM)上に低電気抵抗率のCuコーティング膜を中間膜なしで印刷する技術を開発しました。
樹脂基板への電気配線の直接印刷は、電気めっきや無電解めっきでコーティングしていますが、成膜速度が遅く、大電流用途の太い導体を用意することができません。
・樹脂基板上に中間膜なしでCuコーティング膜を作製することが可能です。
・低電気抵抗性コーティングでは酸化防止が可能であることを確認しました。
【研究成果】
低融点の樹脂材料に直接電気配線を生成する装置
・安定した成膜技術の確立
・銅の電気抵抗値(率)に近づける溶射条件の検討
安井 利明 (やすい としあき)
豊橋技術科学大学 機械工学系 准教授
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掲載日:2021年03月23日
最終更新日:2021年03月23日